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          電鍍設備的工藝要求

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          電鍍設備的工藝要求

          發布日期:2016-08-23 12:56 來源:http://www.tabbusinessconsultants.com 點擊:

          電鍍設備的工藝要求

          電鍍設備的工藝要求
          1. 鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間,應有良好的結合力。
          2. 鍍層應結晶細致、平整、厚度均勻。
          3. 鍍層應具有規定的厚度和盡可能少的孔隙。
          4. 鍍層應具有規定的各項指標,如光亮度、硬度、導電性等。
          5. 電鍍時間及電鍍過程的溫度,決定鍍層厚度的大小。
          6.環境溫度為-10℃~60℃。
          7.輸入電壓為220V±22V或380V±38V。
          8.水處理設備最大工作噪聲應不大于80dB(A)。
          9.相對濕度(RH)應不大于95%。
          10.原水COD含量為100mg/L~150000mg/L。


          相關標簽:電鍍廢水

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